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主動光學(xué)隔振平臺TMC STACIS III廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中。

TMC光學(xué)隔振平臺 LaserTable-Base是現(xiàn)有光學(xué)平臺隔振技術(shù)的一大飛躍。通常，光學(xué)平臺由低頻氣動隔振系統(tǒng)支撐。雖然在隔離高頻方面非常有效，但這些被動系統(tǒng)實際上放大了關(guān)鍵的1至3 Hz范圍內(nèi)的振動。

CleanBench實驗臺光學(xué)平臺是我們的下一代行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)63系列實驗臺。TMC的隔振實驗臺具有業(yè)界的性能，是各種應(yīng)用選擇，包括AFM、共聚焦顯微鏡、試管受精、膜片鉗、干涉測量和計量。CleanBench采用了TMC*的Gimbal Piston隔振器和具有增強性能和功能的臺面。

儀廣科技 拼接光學(xué)平臺 普通平臺的單個最大尺寸是4.8m×1.5m，有些復(fù)雜的光束路徑通常需要更大的尺寸或者一個大型平臺無法裝入電梯，則可以通過拼接平臺實現(xiàn)。拼接后，平臺就像一個整體結(jié)構(gòu)，為了達到理想的效果，拼接后不能影響平臺整體的平整度、阻尼和剛度，所以拼接式平臺的工藝要求非常高，我們的拼接面是機械精密對接而不是將結(jié)合板焊接而成，這樣不會因為焊接的熱效應(yīng)導(dǎo)致拼接面變形。

儀廣科技 GN系列 無磁光學(xué)平臺 無磁光學(xué)平臺又稱非磁性光學(xué)平臺，常用于需要支撐高強度磁鐵或保持均勻磁場的應(yīng)用。臺面全部采用非磁性304不銹鋼或316不銹鋼制成。同時，我們也提供非磁性隔振支腿和普通隔振支腿兩種類型，無磁隔振支腿上的配件全都采用304不銹鋼材料，雖然不銹鋼合金不能100％非磁性，但能顯著的降低鐵磁性能。

儀廣科技 QT系列自平衡氣浮隔振 光學(xué)平臺 光學(xué)平臺臺面采用蜂窩芯光學(xué)臺面，隔振支腿采用氣浮支腿進行支撐。 每個隔振支腿均內(nèi)置一個高強度復(fù)合材料氣囊，通過水平調(diào)節(jié)氣閥自動增加或釋放一定量的空氣來調(diào)節(jié)承載力，可以自動保持水平向的平衡。 這種氣浮機制使固有頻率大幅降低，對多個方向的振動特別是垂直方向有著良好衰減效果，避免外界振動干擾，提高平臺上儀器設(shè)備的使用精度，隔振性能得到極大提升